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硬盤弱爆!磁帶技術(shù)瞬間裝330TB數(shù)據(jù)
發(fā)布時(shí)間：2017.08.22
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硬盤弱爆！磁帶技術(shù)瞬間裝330TB數(shù)據(jù)

 

　　如果你以為磁帶是早應(yīng)該絕跡的產(chǎn)品，那就大錯(cuò)特錯(cuò)了。

　　三年前，索尼曾經(jīng)送出了一個(gè)驚艷的技術(shù)，其利用自主開發(fā)的濺射薄層沉積技術(shù)，將7.7nm的極細(xì)磁顆粒鋪設(shè)在磁帶上，實(shí)現(xiàn)了高密度磁存儲(chǔ)。而當(dāng)時(shí)他們研制了185TB大的磁帶，硬盤什么的都弱爆了。

　　現(xiàn)在藍(lán)色巨人IBM與索尼合作，在濺射薄層沉積技術(shù)取得突破，公布了世界上最小的磁體(將原子變成納米級(jí)硬盤)。他們準(zhǔn)備的新磁帶技術(shù)，可以把330TB未壓縮數(shù)據(jù)，塞進(jìn)一個(gè)小盒子里，你單手就可以托起。

　　據(jù)悉，IBM構(gòu)造的這個(gè)磁帶的存儲(chǔ)密度為201 Gbit/平方英寸，是當(dāng)前商用磁帶驅(qū)動(dòng)器的20倍，這次的新突破意味著磁帶存儲(chǔ)技術(shù)可以征戰(zhàn)又一個(gè)10年。

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